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我國潔凈室工程行業(yè)發(fā)展趨勢和前景(二)

返回列表 來源: 發(fā)布日期: 2020.08.31
 市場需求:向節(jié)能方向發(fā)展
潔凈廠房是我國的耗能大戶之一。
據(jù)不完全統(tǒng)計,潔凈室的能耗是一般寫字樓的10~30倍。我國的8英寸芯片廠,潔凈室單位面積能耗比美國同類型工廠高 15%(美國耗能 1.28 kW/m2~ 1. 6 3kW/m2,而中國耗能 1.48 kW/m2~1.93 kW/m2)。
以上海某知名芯片廠為例,其全年耗電量的51%是用于潔凈室運(yùn)行及相關(guān)的維護(hù),如果將這51% 的能耗合理降低,對企業(yè)來說就意味著利潤的增長。
因此,潔凈室下游相關(guān)行業(yè)企業(yè)越來越重視潔凈室的節(jié)能問題。這就要求潔凈室工程行業(yè)企業(yè),從客戶需求出發(fā),從設(shè)計理念、建造施工、設(shè)備配備及運(yùn)行等各個方面進(jìn)行節(jié)能設(shè)計,只有采取全方位的節(jié)能技術(shù),整個潔凈室行業(yè)才能持續(xù)、良性發(fā)展。
 技術(shù)走勢:向空氣分子控制等高端潔凈室工程
空氣分子污染AMC作為IC工廠所關(guān)心的問題于 20 年前最先由日本人提出,近年來,世界 IC卡技術(shù)發(fā)展迅速, IC 芯片日益微型化,目前已經(jīng)有直徑為0.4 mm的世界最小的非接觸型無線射頻識別芯片。
AMC對當(dāng)前的IC生產(chǎn)其潛在的污染比粒子污染要廣泛多,粒子污染控制只需要確定粒徑及個數(shù),但對 AMC 控制而言,除了受芯片線寬的縮小而變化外,并受工藝、工藝設(shè)備、工藝材料及傳送系統(tǒng)等的影響;更有甚者用于某一工序的各種工藝材料(化學(xué)品、特種氣體等)在很多情況下其微量的分子殘余對下一工序往往可能就是污染物。
因此,IC生產(chǎn)過程中的某些加工工序及工序間的材料傳送和存放環(huán)境中,AMC 已成為嚴(yán)重影響成品率的重要問題,AMC 分子控制技術(shù)成為潔凈室設(shè)計與施工建設(shè)的主流趨勢。
目前,國內(nèi)的潔凈室工程行業(yè)企業(yè)中已經(jīng)開始從事此方向的研究。在該領(lǐng)域比較領(lǐng)先的企業(yè)有,亞翔系統(tǒng)集成科技(蘇州)股份有限公司,可以說在分子凈化技術(shù)方面該公司已經(jīng)走在了同行業(yè)的前列。

中國電子工程設(shè)行業(yè)的前列,中國電子工程設(shè)計院則在防微震方面技術(shù)領(lǐng)先。

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